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摘要:
以甲烷作为碳源,采用化学气相沉积方法低压下在两种不同厚度的铜箔上生长出石墨烯.利用光学显微镜、拉曼光谱、扫描电子显微镜对石墨烯的结构、形貌和层数进行了表征.结果表明,可以通过调控反应的生长参数来控制石墨烯的层数,实现了单层石墨烯膜、双层石墨烯岛以及双层石墨烯膜的可控制备.并对不同层数石墨烯生长的机制进行初步的分析.
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文献信息
篇名 单层和双层石墨烯的可控制备和结构表征
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 双层石墨烯 化学气相沉积(CVD) 铜箔
年,卷(期) 2014,(8) 所属期刊栏目 纳米技术
研究方向 页码范围 876-882
页数 分类号 TN386|O469
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.08.19
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐军 8 19 3.0 3.0
2 崔宜之 1 5 1.0 1.0
3 李军 北京凝聚态物理国家实验室中国科学院物理研究所 1 5 1.0 1.0
4 刘冰 北京凝聚态物理国家实验室中国科学院物理研究所 1 5 1.0 1.0
5 杨贺 北京凝聚态物理国家实验室中国科学院物理研究所 1 5 1.0 1.0
6 张永欣 北京凝聚态物理国家实验室中国科学院物理研究所 1 5 1.0 1.0
7 申承民 北京凝聚态物理国家实验室中国科学院物理研究所 1 5 1.0 1.0
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双层石墨烯
化学气相沉积(CVD)
铜箔
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真空科学与技术学报
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大16开
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1981
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