射频功率对F-DLC薄膜结构及场发射性能的影响

• 作者: 杨端翠 肖剑荣 蒋爱华 邵红娟
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: F-DLC薄膜 射频功率 表面形貌 键合结构 场发射性能
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 538-542
• 分类号: TN304
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.05.19

摘要

采用射频等离子体化学增强型气相沉积法,以CF4和CH4为源气体,氩气为载气,在不同射频功率下制备了掺氟类金刚石(F-DLC)薄膜样品.用原子力显微镜观测了样品的表面形貌,用X射线光电能谱仪及拉曼光谱仪等表征方法对样品的键合结构进行了测试、分析.结果显示:薄膜表面致密均匀,射频功率增加,薄膜表面均方根粗糙度增大,膜内sp2杂化结构相对含量增加.样品的场发射性能测试显示:高射频功率下制备的F-DLC薄膜样品的场发射阈值低,场发射电流密度升高.其主要原因是:随着射频功率的增加,薄膜的表面粗糙度增大及薄膜的石墨化程度增加引起.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨端翠	桂林理工大学理学院	15	9	2.0	2.0
2	肖剑荣	桂林理工大学理学院	30	37	4.0	4.0
3	蒋爱华	桂林理工大学理学院	15	26	3.0	4.0
4	邵红娟	桂林理工大学理学院	2	3	1.0	1.0