溶液法制程对有机薄膜晶体管性能影响的研究

• 作者: 方汉铿 欧阳世宏 石强 蔡述澄 谢应涛
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 溶液法制程 旋涂 聚合物 有机薄膜晶体管 迁移率
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 617-620
• 分类号: TN321.5
• 语种: 中文

摘要

基于新型的聚合物绝缘材料和半导体材料,采用溶液法旋涂工艺制作有机薄膜晶体管,通过优化聚合物半导体材料的溶剂、旋涂速度、退火温度等条件,提高有机薄膜晶体管的器件性能.结果表明,不同溶剂溶解半导体对制成的有机薄膜晶体管的迁移率影响明显;半导体层旋涂速度过慢和退火温度过低都会降低有机薄膜晶体管的性能.当采用1,2,4-三-氯苯(TCB)作为半导体溶剂,旋涂速度为3 000 r/min,后烘温度为190℃时,有机薄膜晶体管的迁移率可以达到约0.5cm2·V-1·s-1,亚阈值摆幅降至约0.6 V/dec,开关比大于106.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢应涛	上海交通大学电子信息与电气工程学院光电材料与器件中心	2	2	1.0	1.0
2	欧阳世宏	上海交通大学电子信息与电气工程学院光电材料与器件中心	2	2	1.0	1.0
3	方汉铿	上海交通大学电子信息与电气工程学院光电材料与器件中心	2	2	1.0	1.0
4	石强	上海交通大学电子信息与电气工程学院光电材料与器件中心	7	95	5.0	7.0
5	蔡述澄	上海交通大学电子信息与电气工程学院光电材料与器件中心	1	0	0.0	0.0