Ho3+掺杂Sc2SiO5激光晶体生长与光谱性能研究

• 作者: 姜大鹏 徐军 李璇 杨秋红 狄聚青 苏良碧 郑丽和 马凤凯 麻尉蔚
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Sc2SiO5 激光晶体 提拉法 分凝系数 发射光谱
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 页码范围: 1327-1331
• 页数: 5页
• 分类号: O78
• 字数: 2472字
• 语种: 中文

摘要

采用提拉法分别生长了具有高光学质量的0.5at％和1.0at％的Ho∶ Sc2SiO5(Ho∶ SSO)激光晶体.研究表明晶体空间群为C2/c,晶胞参数为a=0.99723 nm,b=0.64261 nm,c=1.16843 nm,β=103.9°.Ho3+在SSO基质中的分凝系数为0.82.Ho∶ SSO晶体在2085nm处发射截面为1.12×10-20 cm2,发射光谱呈现一个1850～2150nm的宽发射带.当粒子数反转比率β=0.25时,增益截面σg即开始出现正增益.综合评估了晶体的激光性能,表明Ho∶SSO晶体是一种有潜力的2μm波段激光介质.