基于单压电执行器的光栅刻线摆角修正

• 作者: 于海利 冯树龙 巴音贺希格 李晓天 高键翔 齐向东
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 平面光栅 光栅刻线 摆角修正 衍射波前 压电执行器
• 年，卷（期）: 2014,（8）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 2039-2046
• 页数: 8页
• 分类号: O436.1|TN305.7
• 字数: 4177字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20142208.2039

摘要

考虑机械刻划光栅刻线摆角对平面光栅衍射波前质量的影响,本文根据光栅机械刻划过程的特点,提出了一种单压电执行器调节方法.该方法可通过不断调节微定位工作台位移,实时修正工作台摆角导致的光栅刻线摆角误差.首先,推导出了微定位工作台位移实时修正公式.接着,采用三路干涉仪实现了微定位工作台摆角测量及其主要成分分析.最后,进行了光栅刻线摆角放大和校正实验.结果显示,摆角放大和摆角校正实验已基本达到了预期的效果,对光栅宽度为10.4 mm且刻线密度为600 line/mm的光栅进行修正后,光栅刻线摆角比校正前降低了64％以上.这些结果表明:采用单压电执行器方法对光栅刻线摆角进行实时修正可有效降低光栅刻线摆角,提高光栅质量;该方法可应用于大面积机械刻划光栅刻线摆角的修正.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯树龙	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	18	127	6.0	11.0
2	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
3	齐向东	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	61	630	16.0	22.0
4	李晓天	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	17	20	2.0	4.0
5	高键翔	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	6	79	5.0	6.0
6	于海利	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	22	92	7.0	9.0