基于BP神经网络的Ni-Si3N4复合镀层工艺-性能模型预测

• 作者: 侯冠群 孙万昌 张峰 石琴 赵坤 魏汉军
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲电沉积 Ni-Si3N4复合镀层 BP神经网络 高温抗氧化涂层
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 页码范围: 2377-2383
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.4|TQ153.2
• 字数: 3396字
• 语种: 中文

摘要

在正交试验的基础上,运用BP神经网络优化脉冲电沉积工艺制备高颗粒含量的Ni-Si3 N4复合镀层;并对Ni-Si3N4复合镀层的微观结构以及高温抗氧化性能进行了表征分析.结果表明,运用BP神经网络优化的最佳工艺条件:颗粒悬浮量为40 g/L,镀液温度为45℃,转速为300 r/min,占空比为60％;该模型所得预测值与试验值曲线吻合较好,其相对误差较小,最大误差不超过3％,相关系数为0.99932.采用该优化工艺制备的Ni-Si3N4复合镀层中Si3N4微粒弥散分布于Ni基质层内部,镀层与基体之间无孔隙、裂纹等缺陷,具有优异的高温抗氧化性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙万昌	西安科技大学材料科学与工程学院	20	103	6.0	8.0
2	张峰	西安科技大学材料科学与工程学院	12	40	4.0	6.0
3	赵坤	西安科技大学材料科学与工程学院	7	56	5.0	7.0
4	侯冠群	西安科技大学材料科学与工程学院	3	22	3.0	3.0
5	魏汉军	西安科技大学材料科学与工程学院	3	26	3.0	3.0
6	石琴	西安科技大学材料科学与工程学院	1	7	1.0	1.0