高功率脉冲磁控溅射的阶段性放电特征

• 作者: Ricky K.Y.Fu 吴忠振 朱剑豪 李春伟 潘锋 田修波
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射 放电靶电流 工作气压 阶段性放电
• 年，卷（期）: 2014,（17）
• 所属期刊栏目: 气体、等离子体和放电物理
• 页码范围: 175201-1-175201-9
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.175201

摘要

本文从放电靶电流出发，采用一种新的研究方法，即将靶电流分解为多个代表具体放电特性的特征参数，全面而系统的研究了不同的工作气压条件下，靶电流各特征参数随靶电压的增加而进行的演化。结果发现高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)放电靶电流在靶电压由低向高增加的过程中，出现靶电流峰值和平台值的交替变化，体现出明显的阶段性放电特征，且不同的放电阶段在不同气压下出现一定的移动，会在测量范围内出现某些放电阶段的缺失。本文还通过等离子体发射光谱对HPPMS放电靶前等离子体测量发现五个不同的放电阶段分别主要对应氩原子、铬原子、氩离子、铬离子和氩、铬高价离子的放电，但不同的放电条件下相邻的阶段会出现一定程度的交叠。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田修波	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	106	515	11.0	17.0
2	吴忠振	北京大学深圳研究生院新材料学院	8	97	4.0	8.0
4	朱剑豪	香港城市大学物理与材料科学系	24	387	9.0	19.0
7	李春伟	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	5	45	2.0	5.0
8	Ricky K.Y.Fu	香港城市大学物理与材料科学系	1	18	1.0	1.0
9	潘锋	北京大学深圳研究生院新材料学院	12	33	3.0	5.0