二甲基甲酰胺中铥(Ⅲ)在铜电极上的电化学行为

• 作者: 王建朝 赵美峰 陆军 黄严
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 化学
• 关键词: 铥 二甲基甲酰胺 铜电极 电化学 扩散系数 传递系数 交换电流密度 成核机理
• 年，卷（期）: 2014,（20）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 859-862
• 页数: 4页
• 分类号: O616|O646.1
• 字数: 3253字
• 语种: 中文

摘要

应用循环伏安法、单电位阶跃计时电流法、计时电量法研究了二甲基甲酰胺(DMF)中铥(Ⅲ)在Cu电极上的电化学性质.研究表明,铥(Ⅲ)在Cu电极上的还原是不可逆过程.通过上述3种电化学方法得到的扩散系数(D0)相近,由循环伏安法测得的传递系数(α)为0.028 36,通过塔菲尔曲线求得的交换电流密度(i0)为1.352 6×10-6 A/cm2.铥(Ⅲ)离子成核机理研究表明,铥在Cu电极上的电沉积按三维模式生长连续成核.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王建朝	青海师范大学化学系	58	347	12.0	15.0
2	赵美峰	青海师范大学化学系	11	33	3.0	5.0
3	陆军	青海师范大学化学系	10	29	3.0	5.0
4	黄严	青海师范大学化学系	9	24	3.0	4.0