冷光漂白对树脂-牙釉质微拉伸强度及边缘微渗漏的影响

• 作者: 张彦 梁伟腾 潘文婷 谢晓莉 魏珍
• 来源期刊: 口腔医学研究
• 学科: 医学
• 关键词: 冷光漂白 微拉伸强度 扫描电镜 微渗漏
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 临床研究论著
• 页码范围: 442-445,450
• 页数: 5页
• 分类号: R783.1
• 语种: 中文

摘要

目的:探讨冷光漂白对树脂-牙釉质微拉伸强度、界面微观形态及V类洞边缘微渗漏的影响.方法:30颗离体前磨牙随机分为5组,每组6颗牙.P组:未漂白;P0组:漂白后即刻;P1组:漂白后储存于人工唾液1周;P2组:漂白后储存于人工唾液2周;P3组:漂白后储存于人工唾液3周.各组Z-350树脂修复,进行微拉伸实验及扫描电镜观察.另30颗离体磨牙进行V类洞微渗漏实验,分组同上,每组6颗牙,定为S、S0、S1、S2、S3组.SPSS13.0软件包进行统计学处理.结果:P、P2、P3组微拉伸强度显著高于P0组(P＜0.05),P2、P3组微拉伸强度显著高于P1组(P＜o.05),其余各组均无显著差异.扫描电镜观察树脂-釉质界面,P0组存在缝隙,P1、P2、P3组界面逐渐致密.S、S2、S3组(牙合)壁微渗漏值显著低于S0组(P＜0.05),各组龈壁微渗漏无显著差异.组内比较:除S组外,其余4组龈壁微渗漏均显著大于(牙合)壁(P＜0.05).结论:冷光漂白后不适合进行即刻树脂修复,树脂修复最佳时间是漂白后2周.