热丝化学气相沉积微晶硅薄膜结构及性质研究

• 作者: 周炳卿 张林睿 张龙龙 高玉伟
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 微晶硅薄膜 化学气相沉积 热丝
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 页码范围: 2761-2766
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 4082字
• 语种: 中文

摘要

采用热丝化学气相沉积(HWCVD)技术,以钨丝作为热丝,在不同热丝温度和氢稀释度下,分别在玻璃和单晶硅片衬底上沉积微晶硅(μc-Si∶H)薄膜材料.对所制备的微晶硅薄膜材料使用XRD、傅里叶变换红外吸收光谱、透射谱等进行结构与性能的表征分析.结果表明,随着热丝温度升高,氢稀释度变大,薄膜呈现明显的(220)择优生长取向,晶粒尺寸逐渐增大,光学吸收边出现红移,光学带隙逐渐变小.通过优化沉积参数,在热丝温度为1577℃、氢稀释浓度为95.2％、衬底温度为350℃,沉积速率为0.6 nm/s和沉积气压8 Pa条件下,制备的微晶硅薄膜呈现出了(220)方向的高度择优生长取向,平均晶粒尺寸为146 nm,光学带隙约为1.5 eV,光电导率σ.为3.2×10-6Ω-1·cm-1,暗电导率σrd为8.6×10-7 Ω-1·cm-1,表明制备的材料是优质微晶硅薄膜材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周炳卿	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	45	134	6.0	8.0
2	张林睿	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	16	48	4.0	5.0
3	高玉伟	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	3	13	2.0	3.0
4	张龙龙	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	3	13	2.0	3.0