微弧氧化法制备磁性薄膜及其组成结构分析?

• 作者: 向洁琼 吴义强 李文芳 杨亿 谢力生 陈志彦
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化法 磁性薄膜 组成结构分析 氧化铁
• 年，卷（期）: 2014,（z2）
• 所属期刊栏目: 工艺?技术
• 页码范围: 154-157
• 页数: 4页
• 分类号: TG132.2
• 字数: 3304字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2014.增刊(Ⅱ).033

摘要

以钛金属作衬底,FeSO4溶液为主要原料,采用微弧氧化法制备了磁性薄膜,薄膜的饱和磁化强度为77．7 A?m2/kg.探索了薄膜的形成工艺.运用IR、XRD、XPS和SEM等手段表征了磁性薄膜的组成和形貌,结果表明磁性薄膜主要由 Fe3 O4和(Fe2 O3)x?2 H2 O 晶体组成,表面比较光滑致密.简要推断了磁性薄膜的形成机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文芳	华南理工大学材料科学与工程学院	157	1463	20.0	30.0
2	吴义强	中南林业科技大学材料科学与工程学院	209	1598	19.0	27.0
3	谢力生	中南林业科技大学材料科学与工程学院	46	224	8.0	12.0
4	陈志彦	中南林业科技大学材料科学与工程学院	7	48	3.0	6.0
8	向洁琼	中南林业科技大学材料科学与工程学院	3	3	1.0	1.0
9	杨亿	中南林业科技大学材料科学与工程学院	5	7	2.0	2.0