磁场在晶体生长中的应用

• 作者: 左然 狄晨莹 苏文佳
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 静态磁场 动态磁场 晶体生长 熔体对流 单晶硅 多晶硅
• 年，卷（期）: 2014,（13）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 72-77
• 页数: 6页
• 分类号: TG249.6
• 字数: 4864字
• 语种: 中文

摘要

针对磁场在晶体生长中的应用,综述了近年来该领域数值模拟和实验研究的进展,包括静态磁场和动态磁场的产生原理及其在晶体生长中的效应.分析了晶体生长过程中存在的主要流动.综述了晶体生长过程中磁场力对导电熔体对流、固液界面形貌和杂质分布的影响,重点分析了磁场在直拉法单晶硅和定向凝固法多晶硅生长过程中的应用,总结了该领域当前存在的问题及其发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左然	江苏大学能源与动力学院	69	606	14.0	22.0
2	苏文佳	江苏大学能源与动力学院	22	212	8.0	14.0
3	狄晨莹	江苏大学能源与动力学院	3	19	3.0	3.0