高压耦合高功率脉冲磁控溅射的增强放电效应

• 作者: RickyK.Y.Fu 吴忠振 朱剑豪 潘锋 田修波
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射 耦合高压 放电靶电流 等离子体发射光谱
• 年，卷（期）: 2014,（18）
• 所属期刊栏目: 气体、等离子体和放电物理
• 页码范围: 185207-1-185207-11
• 页数: 1页
• 分类号: 52.80.-s|52.25.Jm|52.70.-m|52.70.Ds
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.185207

摘要

等离子体源离子注入与沉积技术作为一种可生产高结合力、高致密度涂层的真空镀膜技术，具有广阔的应用前景，尤其适用于高载荷工况下服役的功能涂层制备。该技术中金属等离子体源是关键，而现有的脉冲阴极弧源结构复杂，且由于伴随“金属液滴”而需要增加过滤装置。本文研究了另一种简单结构的金属等离子体源备选--高功率脉冲磁控溅射源(HPPMS)的放电特性，采用等离子体发射光谱仪探索了不同的耦合高压对HPPMS放电靶电流特性和等离子体特性的作用。发现耦合高压对HPPMS放电有明显的促进作用，相同靶电压下的放电强度大幅增加，相对于金属放电，耦合高压对气体放电的促进作用更加明显，但在自溅射为主的高压放电阶段对金属放电的促进作用明显增强。讨论了耦合高压对HPPMS放电的增强机制，发现耦合高压自辉光放电、耦合高压和HPPMS电压构成双向负压形成的空心阴极效应，以及耦合高压鞘层改善的双极扩散效应都对HPPMS放电的增强有明显作用。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田修波	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	106	515	11.0	17.0
2	吴忠振	北京大学深圳研究生院新材料学院	8	97	4.0	8.0
4	朱剑豪	香港城市大学物理与材料科学系	24	387	9.0	19.0
7	潘锋	北京大学深圳研究生院新材料学院	12	33	3.0	5.0
8	RickyK.Y.Fu	香港城市大学物理与材料科学系	1	0	0.0	0.0