平栅型双层膜阴极的脉冲电压处理及场致发射性能研究

• 作者: 张永爱 杨尊先 林金阳 郭太良
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 平行栅 场发射 氧化锡薄膜 氧化铋薄膜
• 年，卷（期）: 2014,（19）
• 所属期刊栏目: 研究??开发
• 页码范围: 19061-19063,19069
• 页数: 4页
• 分类号: TB332
• 字数: 2126字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2014.19.014

摘要

采用脉冲电压法对平栅双层膜阴极进行处理,进一步提高其场致发射性能.采用磁控溅射法在平行栅电极上溅射氧化铋薄膜和氧化锡薄膜,并对薄膜进行 AFM 分析,通过场致发射测试结果表明,经过脉冲电压法处理后的平行栅双层膜阴极的发射性能,如亮度、均匀度等有了很大的提高,阳压为3000 V,栅压为190 V,其腔体亮度可达462 cd/m2.平行栅双层膜阴极的脉冲电压处理可以有效改善阴极的场发射性能,为改善 SED 阴极结构及材料提供了一条有效的实验方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭太良	福州大学光电显示技术研究所	302	1102	15.0	21.0
2	林金阳	福建工程学院信息学院	19	59	5.0	7.0
3	张永爱	福州大学光电显示技术研究所	57	199	8.0	11.0
4	杨尊先	福州大学光电显示技术研究所	34	85	5.0	7.0