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高k栅介质GeOI 金属氧化物半导体场效应管阈值电压和亚阈斜率模型及其器件结构设计
高k栅介质GeOI 金属氧化物半导体场效应管阈值电压和亚阈斜率模型及其器件结构设计
作者:
刘璐
徐静平
白玉蓉
范敏敏
黄勇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
GeOI MOSFET
阈值电压
亚阈斜率
短沟道效应
摘要:
通过求解沟道与埋氧层的二维泊松方程,同时考虑垂直沟道与埋氧层方向的二阶效应,建立了高k栅介质GeOI金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的阈值电压和亚阈斜率解析模型,研究了器件主要结构参数对器件阈值特性、亚阈特性、短沟道效应、漏极感应势垒降低效应及衬偏效应的影响,提出了优化器件性能的结构参数设计原则及取值范围。模拟结果与TCAD仿真结果符合较好,证实了模型的正确性与实用性。
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部分耗尽
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金属氧化物半导体场效应晶体管
阈值电压
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文献信息
篇名
高k栅介质GeOI 金属氧化物半导体场效应管阈值电压和亚阈斜率模型及其器件结构设计
来源期刊
物理学报
学科
关键词
GeOI MOSFET
阈值电压
亚阈斜率
短沟道效应
年,卷(期)
2014,(8)
所属期刊栏目
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向
页码范围
087301-1-087301-9
页数
1页
分类号
字数
语种
中文
DOI
10.7498/aps.63.087301
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
徐静平
华中科技大学光学与电子信息学院
88
358
9.0
13.0
2
刘璐
华中科技大学光学与电子信息学院
33
220
8.0
14.0
3
黄勇
华中科技大学光学与电子信息学院
24
152
6.0
11.0
4
白玉蓉
华中科技大学光学与电子信息学院
2
3
1.0
1.0
5
范敏敏
华中科技大学光学与电子信息学院
2
3
1.0
1.0
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研究主题发展历程
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GeOI MOSFET
阈值电压
亚阈斜率
短沟道效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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