纳米压印多孔硅模板的研究

• 作者: 孙堂友 张铮 彭静 徐智谋 徐海峰 陈存华
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 纳米压印 阳极氧化铝 多孔硅 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 018102-1-018102-8
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.018102

摘要

纳米压印模板通常采用极紫外光刻、聚焦离子束光刻和电子束光刻等传统光刻技术制备,成本较高.寻找一种简单、低成本的纳米压印模板制备方法以提升纳米压印光刻技术的应用成为研究的重点与难点.本文以多孔氧化铝为母模板,采用纳米压印光刻技术对纳米多孔硅模板的制备进行了研究.在硅基表面成功制备出纳米多孔阵列结构,孔间距为350-560 nm,孔径在170-480 nm,孔深为200 nm.在激发波长为514 nm时,拉曼光谱的测试结果表明,相对于单面抛光的硅片,纳米多孔结构的硅模板拉曼光强有了约12倍左右的提升,对提升硅基光电器件的应用具有重要的意义.最后,利用多孔硅模板作为纳米压印母模板,通过热压印技术,成功制备出了聚合物纳米柱软模板.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐海峰	华中科技大学光学与电子信息学院	34	234	8.0	13.0
2	彭静	武汉科技大学理学院	16	52	4.0	6.0
3	徐智谋	华中科技大学光学与电子信息学院	21	120	8.0	9.0
4	孙堂友	华中科技大学光学与电子信息学院	4	41	4.0	4.0
5	张铮	华中科技大学光学与电子信息学院	7	47	4.0	6.0
6	陈存华	中师范大学化学学院	1	12	1.0	1.0