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摘要:
采用电子束曝光技术以及反应离子刻蚀技术,提出一种简单可控、低成本制备有序排布的一维和二维光子晶体阵列的方法.通过有效的控制刻蚀工艺参数,实现对光子晶体在尺寸、周期和表面结构等进行精确控制目的.此外,以一维光子晶体为衬底,利用甩膜方法成功地制得分布反馈式高分子有机激光器.光泵结果表明,该激光染料的放大自发辐射的阈值为260 kW/cm2、半波宽为0.22 nm.
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文献信息
篇名 低维纳米光子晶体的制备及在有机激光谐振腔的应用
来源期刊 功能材料 学科 工学
关键词 光子晶体 有机激光 分布反馈激光器
年,卷(期) 2014,(23) 所属期刊栏目 工艺?技术
研究方向 页码范围 23101-23104
页数 4页 分类号 TN243
字数 3062字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-9731.2014.23.020
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张琪 上海大学新型显示技术与应用集成教育部重点实验室机电工程与自动化学院 52 456 12.0 20.0
2 张浩 上海大学新型显示技术与应用集成教育部重点实验室机电工程与自动化学院 19 62 5.0 6.0
3 郭坤平 上海大学新型显示技术与应用集成教育部重点实验室机电工程与自动化学院 4 6 2.0 2.0
4 景悦林 上海大学新型显示技术与应用集成教育部重点实验室机电工程与自动化学院 2 2 1.0 1.0
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光子晶体
有机激光
分布反馈激光器
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期刊影响力
功能材料
月刊
1001-9731
50-1099/TH
16开
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
78-6
1970
chi
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12427
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30
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