低温AlN插入层的生长温度对AlGaN/GaN量子阱应力弛豫作用的影响

• 作者: 刘子超 尚林 李明山 甄慧慧 章海霞 许并社
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: AlN插入层 生长温度 AlGaN/GaN量子阱 应变弛豫
• 年，卷（期）: 2014,（8）
• 页码范围: 1926-1932
• 页数: 7页
• 分类号: TN304
• 字数: 3580字
• 语种: 中文

摘要

利用高分辨X射线衍射仪(HRXRD)及原子力显微镜(AFM)研究了低温AlN插入层的生长温度对AlGaN/GaN量子阱应力弛豫作用的影响.结果表明,低温AlN插入层不同的生长温度会导致AlGaN/GaN量子阱不同的表面粗糙度及穿透位错密度,并且当生长温度达到640℃时样品中表面粗糙度及穿透位错密度达到最低,同时具有最高的载流子迁移率及带边发光峰强度.在不同的生长温度,低温AlN表面具有不同的表面形貌.不同的表面形貌将直接影响界面处位错主滑移系的开动及位错阻挡机制.通过分析可以得知,低温AlN不同的表面形貌是由于Al原子在不同温度下的不同的迁移机制造成.