CCD曝光工艺常见缺陷及解决办法

• 作者: 向鹏飞 杨修伟 袁安波 邓涛 高建威
• 来源期刊: 电子科技
• 学科: 工学
• 关键词: CCD 曝光 缺陷 图形
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 电子·电路
• 页码范围: 160-162
• 页数: 3页
• 分类号: TP212.9
• 字数: 2063字
• 语种: 中文

摘要

CCD器件曝光过程中会产生各种缺陷,由此会对线宽和图形产生不良影响.文中针对这些缺陷分析了成因并找到相应的解决办法,形成严谨的工艺规范以达到消除缺陷的目的,同时使得工艺能力和成品率得到了显著提升.