利用密度泛函理论的平面波超软赝势方法,对纤锌矿T M0.125Zn0.875O (T M =Be, Mg)合金和Ga掺杂T M0.125Zn0.875O的结构参数、能带、电子态密度和光学能隙进行计算和分析.结果表明: T M0.125Zn0.875O掺入Ga容易实现并且结构更稳定. T M0.125Zn0.875O合金掺Ga能获得很好的n型材料改性,能隙由导带底Ga 4s态和价带顶O 2p态决定.由于Burstein-Moss移动和多体效应, Ga掺杂后的T M0.125Zn0.875O光学能隙变大,这与实验结果相一致. T M0.125Zn0.875O掺Ga材料可作透明导电薄膜应用到紫外和深紫外光电子器件中.