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摘要:
集成成像较小的再现深度一直都限制着集成成像的发展和应用,针对此问题提出了一种增大集成成像再现深度的方法.该方法在微透镜阵列与显示屏之间附加一个光孔阵列,利用光孔阵列限制显示屏上像素发出光线的发散角,从而有效地增大集成成像的再现深度.对集成成像的再现原理进行了深入分析,讨论了光孔直径与集成成像再现深度的关系.采用ASAP光学模拟软件对所提方法和传统方法进行了模拟对比实验,实验结果显示当光孔直径占透镜元节距的64%时,所提方法的再现深度是传统集成成像再现深度的1.5倍,实验结果验证了理论推导的正确性.
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文献信息
篇名 基于光孔阵列的集成成像三维显示方法
来源期刊 光学学报 学科 工学
关键词 成像系统 再现深度 光孔阵列 微透镜阵列 三维显示
年,卷(期) 2014,(9) 所属期刊栏目 图像处理
研究方向 页码范围 110-114
页数 5页 分类号 TN141
字数 语种 中文
DOI 10.3788/AOS201434.0910004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王琼华 80 713 13.0 25.0
2 邓欢 22 165 7.0 12.0
3 刘尧 16 70 5.0 8.0
4 罗成高 3 12 2.0 3.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
成像系统
再现深度
光孔阵列
微透镜阵列
三维显示
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学学报
半月刊
0253-2239
31-1252/O4
大16开
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
4-293
1981
chi
出版文献量(篇)
11761
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35
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