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基于微芯片的透射电子显微镜的低温纳米精度电子束刻蚀与原位电学输运性质测量?
基于微芯片的透射电子显微镜的低温纳米精度电子束刻蚀与原位电学输运性质测量?
作者:
张超
徐强
方粮
王慧
隋兵才
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
低温电子束刻蚀
原位透射电子显微镜电学测量
InAs纳米线
库仑阻塞效应
摘要:
利用微芯片制备技术制备了带有电极的原位电学薄膜芯片,并结合自制的原位透射电镜样品台,实现了低温下透射电子显微镜聚焦电子束对InAs纳米线的精细刻蚀以及不同温度下的原位电学性能测量。研究发现,随着刻蚀区域截面积的减小,纳米线的电导率也随之减小。当纳米线的截面积从大于10000 nm2刻蚀至约800 nm2时,纳米线电导的减小速率与截面积的减小具有线性关系。同时利用低温聚焦电子束刻蚀,在InAs纳米线上原位制备了一个10 nm的纳米点,并在77与300 K下对该纳米点进行了电学性能测量。通过测量发现在77 K时出现库仑阻塞效应,发生了电子隧穿现象;而300 K时,热扰动提供的能量使这种现象消失。
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透射电子显微镜数字图像增强技术
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期刊文献
内容分析
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关键词热度
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文献信息
篇名
基于微芯片的透射电子显微镜的低温纳米精度电子束刻蚀与原位电学输运性质测量?
来源期刊
物理学报
学科
关键词
低温电子束刻蚀
原位透射电子显微镜电学测量
InAs纳米线
库仑阻塞效应
年,卷(期)
2014,(24)
所属期刊栏目
物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向
页码范围
248105-1-248105-7
页数
1页
分类号
字数
语种
中文
DOI
10.7498/aps.63.248105
五维指标
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
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参考文献
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引证文献
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同被引文献
(0)
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2014(1)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2014(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
低温电子束刻蚀
原位透射电子显微镜电学测量
InAs纳米线
库仑阻塞效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
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