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摘要:
采用电荷分布多位络合模型模拟(CD-MUSIC)、XPS、FTIR和Zeta电位分析的方法研究了三氯化铁去除As(Ⅴ)、Cd(Ⅱ)的机理。结果表明:在pH 3~7范围内,砷、镉通过竞争铁氧化物表面的有效作用位点而相互抑制;而在pH 7~10范围内,Cd(Ⅱ)主要以Cd(OH)2沉淀的方式得以去除,并通过共沉淀作用促进砷的去除。根据CD-MUSIC 模拟结果,As(Ⅴ)主要形成单齿单核质子化( FeOAsO3H1.5-、FeOAsO(H2O)20.5-)的表面配合物,结合常数分别为63.04、66.50;而 Cd(Ⅱ)则以 FeOHCd1.5+形态结合在铁氧化物的表面,结合常数为31.05,其含量随着pH的升高逐渐减少。
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文献信息
篇名 三氯化铁除砷和镉的机理
来源期刊 化工学报 学科
关键词 三氯化铁 镉去除机理 电荷分布多位络合模型
年,卷(期) 2014,(10) 所属期刊栏目 能源和环境工程
研究方向 页码范围 4118-4122
页数 5页 分类号 X781
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0438-1157.2014.10.048
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三氯化铁
镉去除机理
电荷分布多位络合模型
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