微量SiO2对PI/Al2 O3复合薄膜性能的影响

• 作者: 刘立柱 李园园 王诚 石慧 翁凌 金镇镐
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 聚酰亚胺 纳米Al2O3 纳米SiO2 复合薄膜 耐电晕时间
• 年，卷（期）: 2014,（13）
• 所属期刊栏目: 工艺?技术
• 页码范围: 13122-13125,13130
• 页数: 5页
• 分类号: TM215.3|TQ323.7
• 字数: 4095字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2014.13.026

摘要

通过固定纳米氧化铝(Al2 O3)的含量,改变纳米氧化硅(SiO2)的含量,制备一系列纳米 SiO2含量不同的聚酰亚胺(PI)/Al2 O3/SiO2复合薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)和红外光谱(FT-IR)对复合薄膜的微观形貌和分子结构进行表征,结果表明纳米颗粒在PI基体中均匀分散,而且纳米颗粒的加入既不影响PI的分子结构又对聚酰胺酸的热亚胺化无影响.同时测试了薄膜的力学性能、击穿场强和耐电晕时间.结果表明,当纳米SiO2质量分数为0．5％时,复合薄膜的击穿场强和耐电晕时间分别为211．15 kV/mm、378 min,均优于纳米 SiO2质量分数分别为0,0．1％,0．3％和0．7％的薄膜,并且其力学性能也较优异.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘立柱	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	100	618	11.0	17.0
5	翁凌	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	60	270	10.0	12.0
6	金镇镐	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	22	188	7.0	13.0
7	王诚	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	10	41	5.0	6.0
8	石慧	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	3	6	1.0	2.0
9	李园园	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	2	8	2.0	2.0