磁控溅射法制备 Zn1－xFexO 薄膜的微结构及铁磁性研究?

• 作者: 更藏多杰 李文琪 毛玉珍 程亮 罗晶 马书懿
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Zn1 -x Fex O 薄膜 微结构 铁磁性
• 年，卷（期）: 2014,（21）
• 所属期刊栏目: 研究??开发
• 页码范围: 21077-21079,21084
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2+5
• 字数: 2909字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2014.21.017

摘要

采用射频磁控溅射法在 Si 衬底上制备了Zn1－x Fex O (x ＝1．0％,3．0％,5．0％)薄膜样品,并利用 X 射线衍射(XRD)、扫描电子显微(SEM)、X 射线光电子能谱(XPS)对其微结构、表面形貌和化学成分及价态进行分析,结果表明,Zn1－x Fex O (x ＝1．0％,3．0％,5．0％)薄膜晶体结构为 c 轴择优生长的六角纤锌矿结构,Fe 在晶体中以二价和三价两种价态存在.利用振动样品强磁计(VSM)对样品的铁磁性进行测试,薄膜样品在室温下具有明显的铁磁性,并经分析认为铁磁性来源可能是磁性离子与空位缺陷形成束缚磁极子引起的结果.