磁头/磁盘间润滑剂转移机理及影响因素

• 作者: 姜洪源 潘登 闫辉
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 润滑剂转移 分子动力学模拟 磁头/磁盘界面
• 年，卷（期）: 2014,（12）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 128104-1-128104-6
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.128104

摘要

硬盘存储密度的增加促使磁头的飞行高度不断降低。降低磁头飞行高度所导致的润滑剂在磁头与磁盘之间的转移已成为影响磁头飞行稳定性的一个重要因素。本文采用改进后的粗粒珠簧模型，应用分子动力学模拟方法，对磁头/磁盘之间润滑剂转移的机理进行研究。分析了磁盘表面润滑膜厚度、润滑剂种类以及磁头表面局部温度差对磁头/磁盘之间润滑剂转移量的影响。研究结果表明：转移到磁头上的润滑剂的体积随磁盘表面润滑膜厚度的增加而急剧增加；增加单个分子中羟基的数量，可以显著减少转移到磁头上的润滑剂的体积；磁头表面的局部高温可增加转移到磁头上的润滑剂的体积，且增加单个分子中羟基的数量可显著改善局部温度差对磁头/磁盘之间润滑剂转移的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫辉	哈尔滨工业大学机电工程学院	45	563	14.0	20.0
2	姜洪源	哈尔滨工业大学机电工程学院	132	1439	20.0	26.0
3	潘登	哈尔滨工业大学机电工程学院	2	5	1.0	2.0