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摘要:
随着微电子产业的不断发展,刻蚀特征尺度达到纳米级,等离子体刻蚀工艺过程机理研究越来越受到重视。刻蚀表面仿真是研究离子刻蚀特性的重要方法。在离子刻蚀表面仿真中,离子刻蚀产额模型是研究刻蚀机理的重要模型,也是元胞自动机等仿真方法的重要基础。为了解决利用传统方法无法得到准确刻蚀产额模型参数的问题,本文提出一种基于刻蚀速率匹配的离子刻蚀产额优化建模方法,该方法以实际刻蚀速率与模拟刻蚀速率之间的均方差为优化目标,利用基于分解的多目标进化算法来优化离子的刻蚀产额模型参数,并将得到的刻蚀产额模型参数应用到采用元胞方法的刻蚀工艺的实际仿真过程中。实验结果表明了该刻蚀产额优化建模方法的有效性。
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文献信息
篇名 基于刻蚀速率匹配的离子刻蚀产额优化建模方法
来源期刊 物理学报 学科
关键词 刻蚀产额模型 刻蚀速率 多目标进化算法
年,卷(期) 2014,(4) 所属期刊栏目 物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向 页码范围 048201-1-048201-9
页数 1页 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.7498/aps.63.048201
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研究主题发展历程
节点文献
刻蚀产额模型
刻蚀速率
多目标进化算法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
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