常用化工流程模拟软件的比较

• 作者: 薛科创
• 来源期刊: 当代化工
• 学科: 工学
• 关键词: 模拟 软件 Aspen Plus Pro/II ChemCAD
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 模拟与计算
• 页码范围: 759-760,769
• 页数: 3页
• 分类号: TQ018
• 字数: 2760字
• 语种: 中文

摘要

作为一名化工设计人员，掌握化工流程模拟软件是必须的能力。Aspen Plus，Pro/II，ChemCAD是化工设计人员经常使用的三大化工模拟软件。讲述了Aspen Plus，Pro/II，ChemCAD的发展过程以及特点，使化工设计人员在选择化工模拟软件时，有一定的针对性，可以发挥每个软件独特的优点，更好的进行化工设计。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛科创	陕西国防工业职业技术学院化学工程学院	39	80	4.0	7.0