基于PEM的反应磁控溅射镀膜机参数监控系统

• 作者: 张军 张道配 李锐 汪小芳 王斌华
• 来源期刊: 计算机测量与控制
• 关键词: 磁控溅射 真空镀膜 串口通信 LabVIEW
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 控制技术
• 页码范围: 3223-3226
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.8
• 语种: 中文

摘要

实时在线监测磁控溅射反应气体的参数可有效保证镀膜质量;针对反应磁控溅射离子镀膜机反应气体的功能需求,分析了反应气体的控制原理,基于PEM方法提出了控制器方案和反应气体的参数监控方案,分析了监控系统的功能需求,自定义了串口通信协议,基于LabVIEW和串口设计了反应气体的参数监控系统系统,并与设计的控制器用于镀膜工艺试验;试验结果表明,基于PEM方法设计的反应气体参数监控系统功能正确,可为控制器和镀膜机提供参数调控依据,为提高硬质镀膜质量提供了一套有效的监控方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张军	长安大学公路养护装备国家工程实验室	46	266	9.0	14.0
2	李锐		32	100	5.0	9.0
3	汪小芳		40	72	5.0	7.0
4	王斌华	长安大学公路养护装备国家工程实验室	33	160	7.0	12.0
5	张道配	长安大学公路养护装备国家工程实验室	3	5	2.0	2.0