Cu/N表面沉积共掺杂TiO2光催化剂作用机理的理论研究*

• 作者: 李宗宝 樊帅伟 王霞
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 密度泛函理论 Cu/N掺杂TiO2 最优化表面 形成能
• 年，卷（期）: 2014,（15）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 157102-1-157102-7
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.157102

摘要

本文采用基于周期性密度泛函理论研究了Cu/N表面沉积共掺杂对锐钛矿相TiO2(001)面的修饰作用。计算了Cu在不同位置掺杂TiO2(101)面和(001)面的形成能，并在此基础上计算N不同位置掺杂TiO2(001)面及Cu/TiO2(001)面的形成能，通过形成能的比较获得了表面共掺杂的最优化结构。在此基础上计算了最稳定结构的能带结构及态密度，并与S单掺杂TiO2(001)面最稳定结构进行了对比。通过对结果的分析发现：Cu/N在(001)表面的沉积共掺杂有效降低了TiO2的禁带宽度，并在表面形成CuO2相，更利于提高其光催化活性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王霞	铜仁学院生物与化学工程系	41	117	5.0	9.0
2	樊帅伟	三峡大学理学院	7	9	2.0	3.0