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摘要:
采用射频磁控溅射技术,在康宁玻璃衬底上制备了从0.12Pa到1.0Pa共计5个不同溅射气压系列的ZnO:Al(AZO)薄膜样品,通过紫外-可见光谱仪、四探针、台阶仪等测试手段研究了薄膜的晶体结构、光学和电学性能,结果表明,溅射气压对薄膜的结晶质量、光学和电学性能影响较大,在0.12Pa气压条件下制备的薄膜具有最优的光电特性。
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文献信息
篇名 溅射气压对ZnO:Al透明导电薄膜性能影响
来源期刊 电子制作 学科
关键词 ZnO:Al(AZO)薄膜 磁控溅射 光学和电学特性
年,卷(期) 2014,(9) 所属期刊栏目 实验研究 Experimental Research
研究方向 页码范围 41-41,40
页数 2页 分类号
字数 2205字 语种 中文
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1 梁艳 6 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO:Al(AZO)薄膜
磁控溅射
光学和电学特性
研究起点
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期刊影响力
电子制作
半月刊
1006-5059
11-3571/TN
大16开
北京市
1994
chi
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