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摘要:
采用高阻本征GaN薄膜,通过H3PO4刻蚀和SiOxNy薄膜钝化方法对GaN薄膜进行表面态调控,研究了表面态调控对GaN薄膜光致荧光光谱的影响。研究发现, H3 PO4刻蚀对改善GaN薄膜的紫外荧光发射作用不大,但显著增加可见荧光的强度;经SiOx Ny薄膜表面钝化的GaN紫外荧光量子效率增加12-13倍,同时对可见荧光有明显增加。通过比较H3PO4刻蚀和SiOxNy薄膜钝化的室温和低温荧光光谱,探讨了表面态调控对GaN紫外荧光、蓝带荧光和黄带荧光的影响及相关物理机理。
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文献信息
篇名 表面态调控对GaN荧光光谱的影响
来源期刊 物理学报 学科
关键词 GaN 表面态调控 荧光光谱
年,卷(期) 2014,(13) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 137802-1-137802-5
页数 1页 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.7498/aps.63.137802
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研究主题发展历程
节点文献
GaN
表面态调控
荧光光谱
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
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