浅谈企业技术保护的制度选择--商业秘密保护与专利保护的比较

• 作者: 王秀惠
• 来源期刊: 商
• 关键词: 商业秘密 专利 保护
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: 商界论坛 -- 经法视点
• 页码范围: 182-183
• 页数: 2页
• 字数: 5963字
• 语种: 中文

摘要

首先简单叙述商业秘密和专利的概念特征，并厘清二者的内在关系，这是理解商业秘密保护和专利保护的前提。接着阐述商业秘密和专利保护的优劣，阐述商业秘密保护和专利保护的利弊。通过上述比较之后，总结企业在选择商业秘密和专利保护时应当综合考虑的诸多因素，同时建议企业结合自身情况，将商业秘密和专利保护有机结合起来，采用正确有效的方式来保护本企业的技术信息和经营信息。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王秀惠		1	0	0.0	0.0