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摘要:
为进一步丰富芯片微观区域单粒子效应敏感度研究方法,开展IPEM装置建设前期研究。针对新型装置入射离子位置测量这一关键问题,在串列加速器单粒子效应专用辐照终端上,搭建光学位置测量装置,对单个离子在闪烁体材料上诱发产生的光子进行位置测量。通过分析实验数据,确认CCD测量到代表单个入射离子的二次光子图像,为下一步IPEM辐照装置的建设积累了经验。
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文献信息
篇名 重离子诱发二次光子位置测量技术研究
来源期刊 科技视界 学科
关键词 IPEM 二次光子 位置测量 CCD
年,卷(期) 2014,(10) 所属期刊栏目 科教前哨
研究方向 页码范围 63-63,15
页数 2页 分类号
字数 1219字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭刚 34 65 4.0 7.0
2 史淑廷 7 5 2.0 2.0
3 范辉 5 7 2.0 2.0
4 王惠 4 0 0.0 0.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
IPEM
二次光子
位置测量
CCD
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技视界
旬刊
2095-2457
31-2065/N
大16开
上海市
2011
chi
出版文献量(篇)
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