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Development of an Emulator for the Plasma Process Control
Development of an Emulator for the Plasma Process Control
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摘要：
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An experimental study on dynamic coupling process of alkaline feldspar dissolution and secondary min
Alkaline feldspar
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文献信息
| 篇名 | Development of an Emulator for the Plasma Process Control | ||
| 来源期刊 | 机械工程与自动化：英文版 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 等离子体射流 工艺控制 模拟器 空气等离子喷涂 涂层性质 开发 工艺参数 优化工艺 | ||
| 年，卷（期） | 2015,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 10-18 | |
| 页数 | 9页 | 分类号 | TP273 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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等离子体射流
工艺控制
模拟器
空气等离子喷涂
涂层性质
开发
工艺参数
优化工艺
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期刊影响力
机械工程与自动化：英文版
主办单位：
美国大卫出版公司
出版周期：
月刊
ISSN：
2159-5275
CN：
开本：
出版地：
武汉洪山区卓刀泉北路金桥花园C座4楼
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
651
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