碱性清洗液中pH值对苯并三氮唑去除效果的影响

• 作者: 刘玉岭 王辰伟 邓海文 顾张冰 高宝红
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: CMP后清洗 碱性螯合剂 苯并三氮唑(BTA) 接触角 电化学
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 811-814
• 分类号: TN305.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2015.12.011

摘要

主要在以碱性螯合剂去除苯并三氮唑(BTA)的基础上,通过改变清洗液的pH值来研究螯合剂对BTA去除效果的影响.BTA会和铜在其表面生成一层致密的Cu-BTA膜,使铜的表面疏水.利用这一特性,通过铜表面接触角大小的变化来判断BTA的去除效果.利用电化学工作站,在螯合剂与BTA的混合溶液作为电解质的条件下,得出铜电极的塔菲尔曲线来验证接触角的测试结果.结果表明,随着pH值的增加,在pH值为7～10时,对BTA的去除有很明显的促进作用.当pH值大于10后,促进作用不明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学微电子研究所	263	1540	17.0	22.0
2	邓海文	河北工业大学微电子研究所	5	7	2.0	2.0
3	高宝红	河北工业大学微电子研究所	29	61	4.0	5.0
4	王辰伟	河北工业大学微电子研究所	80	287	8.0	10.0
5	顾张冰	河北工业大学微电子研究所	4	7	2.0	2.0