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光刻胶成膜树脂的研究进展
光刻胶成膜树脂的研究进展
作者:
冯波
宋梦瑶
朱超
艾照全
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光刻胶
单体
成膜树脂
光敏度
化学放大光刻胶
有效含碳量
摘要:
光刻胶是集成电路和分立器件的基础工艺材料,主体成膜树脂是光刻胶的重要组分之一,不同的成膜树脂对光刻胶的性能有不同影响.主要综述了光刻胶的分类,影响光刻胶成膜树脂性能的因素,成膜树脂的发展,及光刻胶的主要技术参数.
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应用
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光刻胶
成膜树脂
化学增幅型
曝光
193 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展
光刻胶
成膜树脂
曝光
分辨率
抗蚀刻性能
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
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关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
光刻胶成膜树脂的研究进展
来源期刊
粘接
学科
工学
关键词
光刻胶
单体
成膜树脂
光敏度
化学放大光刻胶
有效含碳量
年,卷(期)
2015,(2)
所属期刊栏目
综述
研究方向
页码范围
78-81,86
页数
5页
分类号
TQ577.3+5
字数
4413字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
艾照全
有机功能分子合成与应用教育部重点实验室湖北大学化学化工学院
28
94
6.0
7.0
2
朱超
有机功能分子合成与应用教育部重点实验室湖北大学化学化工学院
8
17
3.0
4.0
3
冯波
有机功能分子合成与应用教育部重点实验室湖北大学化学化工学院
7
11
2.0
3.0
4
宋梦瑶
有机功能分子合成与应用教育部重点实验室湖北大学化学化工学院
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研究主题发展历程
节点文献
光刻胶
单体
成膜树脂
光敏度
化学放大光刻胶
有效含碳量
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
粘接
主办单位:
湖北省襄樊市胶粘技术研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-5922
CN:
42-1183/TQ
开本:
大16开
出版地:
湖北襄阳高新区航天路7号
邮发代号:
38-40
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
5030
总下载数(次)
30
总被引数(次)
17951
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