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摘要:
从清洗剂、清洗温度、清洗时间等方面进行分析和试验,研究了一种新型半水清洗工艺,并且通过重新设计设备工装,最终能在同一个清洗腔内同时清洗大小不同、形状各异的低频电路组件、高频电路小模块和大壳体,并且不会对元器件和电路板造成损伤,大大提高了军工产品的清洗效率,满足军工科研生产单位“多品种、小批量”产品的清洗要求,从而有效替代传统的超声清洗工艺。
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文献信息
篇名 微波组件半水清洗工艺研究
来源期刊 电子工艺技术 学科 工学
关键词 微波组件 助焊剂残留物 清洗工艺 超声清洗 半水清洗
年,卷(期) 2015,(1) 所属期刊栏目 微组装 SMT PCB
研究方向 页码范围 38-41
页数 4页 分类号 TN605
字数 1285字 语种 中文
DOI 10.14176/j.issn.1001-3474.2015.01.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈梁 中国电子科技集团公司第五十五研究所 3 3 1.0 1.0
2 崔洪波 中国电子科技集团公司第五十五研究所 8 22 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
微波组件
助焊剂残留物
清洗工艺
超声清洗
半水清洗
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
双月刊
1001-3474
14-1136/TN
大16开
太原市115信箱
22-52
1980
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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