光学干涉在二次电光系数测量中的应用与分析

• 作者: 周忠祥 宫德维 张宇 王晓鸥 田浩 霍雷
• 来源期刊: 物理与工程
• 关键词: 电光效应 电光系数 干涉
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 物理实验
• 页码范围: 52-54
• 页数: 3页
• 字数: 1608字
• 语种: 中文

摘要

为了更加深入地掌握光学干涉原理以及晶体材料的电光效应,我们搭建了利用干涉原理的典型光学系统——马赫-曾德尔电光系数干涉测量系统.首先,结合光学干涉原理和晶体材料的二次电光效应,进行了详细的理论推导,证明了测量方法的正确性和可行性.之后,以钽铌酸钾钠(KNTN)晶体作为研究对象,在实验中测量得到了其二次电光系数s11为2.28×10-15 m2·V-2.在此过程中,通过对马赫-曾德尔光学干涉测量系统的理论剖析与实际应用,相信可以帮助同学们更深入地理解和掌握光学干涉、晶体折射率及其电光效应的本质与原理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张宇	哈尔滨工业大学物理系	197	1689	20.0	36.0
2	霍雷	哈尔滨工业大学物理系	30	34	3.0	4.0
3	周忠祥	哈尔滨工业大学物理系	40	228	9.0	13.0
4	田浩	哈尔滨工业大学物理系	51	518	14.0	21.0
5	王晓鸥	哈尔滨工业大学物理系	30	87	6.0	8.0
6	宫德维	哈尔滨工业大学物理系	5	20	2.0	4.0