多弧离子镀沉积TiAlN/TiN多层膜的结构与性能

• 作者: 李云珂 王宇 王萌萌 陈广宵 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 多弧离子镀 TiAlN/TiN多层膜 薄膜结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3616字
• 语种: 中文

摘要

为研究调制周期对薄膜结构和性能的影响,采用多孤离子镀技术在高速钢上制备TiAlN/TiN多层膜,通过改变调制周期制备了不同层数的TiAlN/TiN多层膜,使用扫描电子显微镜(SEM)、XP-2台阶仪、X线衍射仪(XRD)和维氏硬度计对薄膜的表面形貌、厚度、物相结构和硬度进行测量,并对实验结果进行分析和讨论.结果表明:TiAlN/TiN多层薄膜中膜层的择优生长方向主要表现为TiAlN相的(0010)取向;调制周期的改变对薄膜的沉积速率基本没有影响;随着调制周期的减小,样品的表面质量提高,显微硬度明显变大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
2	王萌萌	天津师范大学物理与材料科学学院	6	39	3.0	6.0
3	王宇	天津师范大学物理与材料科学学院	15	33	3.0	5.0
4	李云珂	天津师范大学物理与材料科学学院	6	50	5.0	6.0
5	陈广宵	天津师范大学物理与材料科学学院	1	14	1.0	1.0