Ar离子刻蚀聚酰亚胺薄膜的XPS研究

• 作者: 王佳宝 申书昌 辛建娇
• 来源期刊: 化工时刊
• 关键词: 聚酰亚胺 Ar离子刻蚀 X射线光电子能谱 表面分析
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 科技进展
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 字数: 1236字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-154X.2015.01.001

摘要

本文用3.0keVAr离子刻蚀聚酰亚胺薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对薄膜表面元素组成、化学环境进行了分析,考察了不同刻蚀深度的薄膜表面的化学结构变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	申书昌	齐齐哈尔大学分析测试中心	114	338	9.0	12.0
2	辛建娇	齐齐哈尔大学分析测试中心	11	9	2.0	2.0
3	王佳宝	齐齐哈尔大学分析测试中心	4	6	2.0	2.0