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基于纳米工艺的数字集成电路电源版图设计
基于纳米工艺的数字集成电路电源版图设计
作者:
吕江萍
胡传菊
陈超
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
版图设计
数字集成电路
电压降(IR—drop)
摘要:
在纳米工艺的数字集成电路电源版图设计中,根据芯片布局合理进行电源布局、电源个数以及电源布线等方面设计,确保每一个电压域都有完整的电源网络。在电源分析时从电压降、功耗及电迁移评估分析,使设计好的电源网络符合电源预算规划。在可靠性设计时采取布线优化、添加去耦电容、优化封装设计等方法,提高电源抗干扰能力,从而降低电压降、提高电源的完整性和可靠性。
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文献信息
篇名
基于纳米工艺的数字集成电路电源版图设计
来源期刊
集成电路通讯
学科
工学
关键词
版图设计
数字集成电路
电压降(IR—drop)
年,卷(期)
2015,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
6-9
页数
4页
分类号
TN431.2
字数
语种
DOI
五维指标
作者信息
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姓名
单位
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被引次数
H指数
G指数
1
吕江萍
北方通用电子集团有限公司微电子部
3
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2
陈超
北方通用电子集团有限公司微电子部
2
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北方通用电子集团有限公司微电子部
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研究主题发展历程
节点文献
版图设计
数字集成电路
电压降(IR—drop)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路通讯
主办单位:
中国兵器工业第214研究所
出版周期:
季刊
ISSN:
CN:
开本:
大16开
出版地:
安徽省蚌埠市06信箱
邮发代号:
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
868
总下载数(次)
16
总被引数(次)
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