高性能氮化铝粉体技术发展现状

• 作者: 何金奇 崔嵩 张浩
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: AlN 粉体 制备方法 基板材料
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 氮化铝技术的发展
• 页码范围: 14-18
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 4884字
• 语种: 中文

摘要

氮化铝(AlN)陶瓷具有良好的热性能、电性能、机械性能和化学稳定性,是现今较为理想的基板材料和电子封装材料.AlN陶瓷的优良性能与原材料粉体的性能有着直接的关系,高性能AlN粉体是制备高热导率AlN陶瓷的关键.本文综述了高性能AlN粉体的制备技术与发展现状,比较了国内外AlN粉体的发展差距,指出了国内下一步需要努力的方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何金奇	中国电子科技集团公司第四十三研究所	3	17	2.0	3.0
2	张浩	中国电子科技集团公司第四十三研究所	22	27	3.0	5.0
3	崔嵩	中国电子科技集团公司第四十三研究所	14	19	2.0	4.0