单质铜颗粒掺杂的氧化亚铜复合薄膜制备及物性研究

• 作者: 王刘勇
• 来源期刊: 应用物理
• 学科: 工学
• 关键词: Cu₂O:Cu 脉冲激光沉积 颗粒掺杂
• 年，卷（期）: yywl_2015,（11）
• 页码范围: 131-136
• 页数: 6页
• 分类号: TB3

摘要

本文采用脉冲激光沉积法成功制备出,Cu2O:Cu复合薄膜,Cu2O薄膜。结果表明在600℃时易获得纯Cu2O薄膜,当温度升高到700℃时,会有铜单质的出现,并通过X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),扫描电子显微镜(SEM),探究了薄膜的生长取向和表面形貌,在STO (001)基底上,Cu2O生长取向为(002),Cu为(022)。同时利用透射电子显微镜测试了薄膜的微结构,但由于Cu颗粒或团簇尺寸太小,并不能直接被观察到。薄膜的光吸收测试表明,这种颗粒掺杂的复合薄膜较纯Cu2O薄膜,在部分波段具有更高的吸收系数。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王刘勇	苏州大学物理与光电能源学部	1	0	0.0	0.0