聚酰亚胺薄膜烧结铜扁线附着性的影响因素

• 作者: 刘佳音 唐文进 杨名波 汤海涛 邵兵
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 附着性 扭转 铜扁线
• 年，卷（期）: 2015,（9）
• 页码范围: 56-59
• 页数: 4页
• 分类号: TM215.3|TM245
• 语种: 中文

摘要

对铜扁线的表面质量、烧结温度、压轮、感应线圈的加热方式以及聚酰亚胺薄膜F-46胶层厚度等因素对聚酰亚胺薄膜烧结铜扁线附着性的影响进行分析,对具有不同附着性的烧结线进行了扭转测试.结果表明:要获得最佳的附着性,须对铜扁线进行抛光处理,烧结温度控制在270~290℃,压轮在烧结线表面的下压距离为0.5~1.0 mm,采用开口式矩形感应线圈加热时铜扁线横向偏移感应线圈几何中心位置在1 mm以内,聚酰亚胺薄膜厚度允许时应采用F-46胶层较厚的薄膜.为保证聚酰亚胺薄膜烧结铜扁线满足后续的加工要求,3.35 mm×9 mm烧结线绝缘层失去附着性的长度最大不应超过4 mm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐文进		11	22	3.0	4.0
2	刘佳音		7	21	3.0	4.0
3	杨名波		9	20	3.0	4.0
4	汤海涛		7	12	2.0	3.0
5	邵兵		2	2	1.0	1.0