极紫外波段变栅距光栅刻槽密度变化及光谱分辨能力分析

• 作者: 吴娜 姜岩秀 张桐 李文昊 王鹍
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 变栅距光栅 球面波 刻槽密度 光谱分辨能力
• 年，卷（期）: 2015,（9）
• 所属期刊栏目: 发光学应用及交叉前沿
• 页码范围: 1094-1099
• 页数: 6页
• 分类号: O436.1
• 字数: 3348字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20153609.1094

摘要

针对应用于50~150 nm波段的变栅距光栅，采用球面波曝光系统进行优化设计，分析了不同宽度光栅的刻槽密度变化和光谱分辨能力。理论分析结果表明，光栅宽度为4 mm时，理论分辨能力高于14000；光栅宽度为10 mm时，理论分辨能力约为9000；光栅宽度为30 mm时，理论分辨能力急剧下降，约为3000。光栅的宽度越大，其刻槽弯曲程度就越大，光栅的光谱分辨能力就越低，因此球面波曝光系统只适合制作宽度较小的变栅距光栅。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文昊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	35	144	7.0	11.0
2	张桐	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	176	5.0	8.0
3	吴娜	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	20	91	6.0	9.0
4	姜岩秀	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	19	3.0	4.0
5	王鹍	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	1	6	1.0	1.0