UNCD薄膜的研究进展与应用

• 作者: 俞力 吕继磊 朱金凤 李赫 江南 游志恒 诸跃进
• 来源期刊: 硬质合金
• 关键词: UNCD薄膜 化学气相沉积 掺杂 等离子体
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 126-135
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7292.2015.02.009

摘要

UNCD薄膜系其晶粒尺寸小于5 nm为主要特征高性能金钢石薄膜,有的研究者称为超纳米膜,具有诸多优异的物理和化学性能,在工业应用中得到广泛的青睐.UNCD不仅具备普通金刚石的各项性能,而且因其极小的晶粒尺寸,使得UNCD薄膜表面极其光滑,大大降低了摩擦系数,不需要进行抛光处理就可以直接进行工业应用,从而大大节省时间和成本.本文综述了近年来通过提高形核密度、气体掺杂、调节衬底温度等方法制备出高质量的UNCD膜,指出随着Ar掺入量的增加,二次形核率提高,晶粒尺寸细化.讨论了UNCD膜在MEMS器件、耐磨材料、表面声波和体声波器件以及生物医学应用领域的优势,并介绍了美国阿贡实验室和ADT公司在UNCD膜领域的研究进展.