自抛光防污涂层中铜离子释放对铝合金基体腐蚀的影响

• 作者: 唐聿明 孙东明 左禹 张寒露 曹京宜
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 防污涂层 氧化亚铜 5083铝合金 腐蚀
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 111-115
• 分类号: TG174.44|TG113.23
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.2015.05.017

摘要

针对防污涂层中含铜防污剂对铝合金基体的腐蚀影响问题,采用动电位极化曲线和腐蚀失重的方法,研究5083铝合金在含不同浓度Cu2+的3.5％ NaCl溶液中的电化学腐蚀行为,采用电化学交流阻抗方法研究自抛光防污涂层和不含铜防污剂的丙烯酸树脂基涂层对铝合金的屏蔽性能和腐蚀情况.结果表明,溶液中的Cu2+浓度低于70 μg/L时,对5083铝合金的腐蚀速率影响不大,当Cu2+浓度超过此临界值时铝合金的腐蚀会显著加速;直接涂刷防污涂层的铝合金在3.5％ NaCl溶液中浸泡4天就发生腐蚀,说明涂层中的防污剂Cu2O与NaCl溶液反应生成的Cu2+向涂层内部渗透对铝合金基体的腐蚀有负面影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左禹	北京化工大学材料科学与工程学院	211	2052	25.0	32.0
2	唐聿明	北京化工大学材料科学与工程学院	72	249	8.0	12.0
3	曹京宜	海军装备技术研究所海军涂料分析检测中心	14	58	5.0	6.0
4	张寒露	海军装备技术研究所海军涂料分析检测中心	6	15	2.0	3.0
5	孙东明	海军装备技术研究所海军涂料分析检测中心	1	5	1.0	1.0