脉冲偏压对复合离子镀（Ti,Cu）N薄膜结构与性能的影响

• 作者: 张臣 王宇 王萌萌 陈泽昊 黄美东
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 复合离子镀 (Ti,Cu) N薄膜 脉冲偏压 表面形貌 结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2015,（10）
• 所属期刊栏目: 膜层技术 Coating Technology
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2652字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.10.004

摘要

目的：( Ti,Cu) N薄膜是一种新型的硬质涂层材料,关于其结构和性能的研究报道还较少。研究脉冲偏压对( Ti,Cu) N薄膜结构与性能的影响规律,以丰富该研究领域的成果。方法将多弧离子镀和磁控溅射离子镀相结合构成复合离子镀技术,采用该技术在不同脉冲偏压下于高速钢基体表面制备( Ti,Cu) N薄膜。分析薄膜的微观结构,测定沉积速率及薄膜显微硬度,通过摩擦磨损实验测定薄膜的摩擦系数。结果在不同偏压下获得的(Ti,Cu)N薄膜均呈晶态,具有(200)晶面择优取向,当脉冲偏压为-300 V时,薄膜的择优程度最明显。随着脉冲偏压的增加,薄膜表面大颗粒数量减少且尺寸变小,表面质量提高；沉积速率呈现先增大、后减小的趋势,在脉冲偏压为-400 V时最大,达到25.04 nm/min；薄膜硬度也呈现先增大、后减小的趋势,在脉冲偏压为-300 V时达到最大值1571.4 HV。结论脉冲偏压对复合离子镀( Ti,Cu) N薄膜的表面形貌、择优取向、沉积速率和硬度均有影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
2	王萌萌	天津师范大学物理与材料科学学院	6	39	3.0	6.0
3	陈泽昊	天津师范大学物理与材料科学学院	6	14	2.0	3.0
4	王宇	天津师范大学物理与材料科学学院	15	33	3.0	5.0
5	张臣	天津师范大学物理与材料科学学院	5	13	2.0	3.0