电感耦合等离子质谱仪取样锥后分析离子空间传递行为的探讨

• 作者: 孙自杰 马海斌
• 来源期刊: 冶金分析
• 关键词: 电感耦合等离子体质谱仪 取样锥 质量控制传递 功率 雾化气流速 基质干扰
• 年，卷（期）: 2015,（9）
• 页码范围: 8-13
• 页数: 6页
• 字数: 2952字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13228/j.b0yuan.issn1000-7571.009669

摘要

为更好的理解困扰电感耦合等离子质谱仪(ICP-MS)分析灵敏度提高的基质干扰问题,利用激光诱导荧光技术,考察了钡离子和钙离子在ICP-MS取样锥后的质量控制传递行为.通过比较分析离子在取样锥孔口及后端的径向分布,探讨了ICP功率、雾化气流速及基质干扰对取样锥后分析离子空间分布的影响.结果表明:取样锥孔口钙离子与钡离子分布类似,但取样锥后扩散状况与其相对原子质量有关,相对原子质量小的元素径向扩散更快,因此仪器检测灵敏度较低;雾化气流速越大,分析离子的传递效率越低,因此更高的进样速率在ICP-MS应用中不一定对应更高的检测灵敏度;分析离子径向分布及数量也受基质组分影响,基质干扰降低了取样锥后中心轴线上的分析离子数量,使其径向分布变得更扁平,通过截取锥的概率更低,最终使得分析离子的信号降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马海斌	潍坊学院化学化工与环境工程学院	8	11	2.0	2.0
2	孙自杰		21	67	4.0	7.0